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PECVD系統(tǒng)在薄膜沉積領(lǐng)域的應(yīng)用和發(fā)展
管式真空氣氛爐在結(jié)構(gòu)上具有很強(qiáng)的實(shí)用性
CVD管式爐設(shè)備由沉積溫度控件、沉積反應(yīng)室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設(shè)計生產(chǎn)，CVD系統(tǒng)除了主要應(yīng)用在碳納米材料制備行業(yè)外，現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè)，包括納米電子學(xué)、半導(dǎo)體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。
產(chǎn)品型號：
更新時間：2026-05-19
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
瀏覽次數(shù)：10848
PECVD系統(tǒng)配置：1.1200度開啟式雙溫區(qū)真空管式爐2.等離子射頻電源3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)4.真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空）
產(chǎn)品型號：
更新時間：2025-02-27
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
瀏覽次數(shù)：10880
CVD管式爐設(shè)備由沉積溫度控件、沉積反應(yīng)室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設(shè)計生產(chǎn)，CVD系統(tǒng)除了主要應(yīng)用在碳納米材料制備行業(yè)外，現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè)，包括納米電子學(xué)、半導(dǎo)體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域。
產(chǎn)品型號：
更新時間：2024-08-27
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
瀏覽次數(shù)：9780
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。
產(chǎn)品型號：
更新時間：2025-02-27
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
瀏覽次數(shù)：24395
產(chǎn)品用途：此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)真空淬火退火，快速降溫等工藝實(shí)驗(yàn)。
產(chǎn)品型號：
更新時間：2024-10-28
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
瀏覽次數(shù)：7799
產(chǎn)品用途：此款CVD系統(tǒng)是專門為在金屬箔上生長薄膜而設(shè)計，特別是應(yīng)用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔電極方面的研究，通過滑動爐實(shí)現(xiàn)快速加熱和冷卻。
產(chǎn)品型號：
更新時間：2024-10-28
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
瀏覽次數(shù)：8254
電話：022-26980130
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