CVD管式爐設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據用戶需要設計生產，CVD系統除了主要應用在碳納米材料制備行業外，現在正在使用在許多行業，包括納米電子學、半導體、光電工程的研發、涂料等領域。

CVD管式爐設備由沉積溫度控件、沉積反應室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據用戶需要設計生產，CVD系統除了主要應用在碳納米材料制備行業外，現在正在使用在許多行業，包括納米電子學、半導體、光電工程的研發、涂料等領域。

產品用途：此款CVD系統適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結真空淬火退火，快速降溫等工藝實驗。

產品用途：此款CVD系統是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計，特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究，通過滑動爐實現快速加熱和冷卻。

公司主營快速退火爐 馬佛爐管式電阻爐/熱處理電阻爐/高溫箱式電阻爐中環電阻爐/干燥箱/恒溫干燥箱/鼓風干燥箱/電熱鼓風干燥箱/真空干燥箱/遠紅外干燥箱/濕熱實驗箱/高溫電熱鼓風干燥箱/大型電熱鼓風干燥箱/水箱/電熱水箱/恒溫水箱/電熱恒溫水箱/萬用電爐/封閉萬用電爐/封閉電爐/CVD爐/cvd電爐/rtp爐/快速退火爐/立式電爐/管爐/石磨希電爐/RTP/快速激活爐/粉體電爐/快速熱氧化爐

CVD系統系周期作業，供企業實驗室，大專院校，科研院所等單位選用，設備為用戶提供具體真空、可控氣氛及高溫的實驗環境，應用在半導體，納米技術，碳纖維等新材料新工藝領域。